要实现芯片自研的发展，首先要有一流的掩模版光刻机，而掩模版光刻机是芯片生产的关键设备。光刻机是生产手机芯片的重要机器之一，掩模对准器是芯片制造过程中不可或缺的设备，要解决的技术是芯片制造技术，而掩模对准器是关键，其中，如何准确曝光关系到芯片的刻蚀精度，即关系到芯片的成功率。掩模对准器是为了制造芯片制造所需的电路和功能区。
因此，芯片制造和加工所需的掩模对准器也称为极紫外光刻（EUV）。据光电子研究所的专家表示，该研究所成功开发的SP掩模对准器还需要克服芯片制造中的一系列技术问题，它仍然很遥远。也就是说，中科院研制的光刻机不能用于光刻机CPU（如一些网络媒体所说）。我相信大多数人都知道mask aligner的用途是刻字。
芯片制造的曝光需要紫外光源。先有芯片再有mask aligner的答案是完全错误的，不符合历史事实，目前，只有少数几个国家能够生产光刻机，只有荷兰阿斯麦公司能够生产高精度光刻机，而荷兰阿斯麦公司垄断了全球高精度光刻机，而光刻机实际上在晶体管分立器件时代就已存在。其意义在于用廉价的光源实现更高的分辨率，就像一个空的大脑一样，大脑只有通过光刻技术将指令放入其中才能运行，而电路图和其他电子元件就是芯片设计师设计的指令。
